主要技术内容
主要技术内容包括:分级和用途、水质控制项目及其限值、处理流程与环节、安全与风险控制、取样与监测等部分。
5 分级和用途
5.1 根据水质,将再生水分为EWS-1、EWS-2和EWS-3三级。
5.2 水质达到相关要求时,再生水可用于电子和半导体、显示面板制造等电子工业的电子级水水源。EWS-1再生水也可用于EWS-2和EWS-3对应的电子级水水源。EWS-2再生水也可用于EWS-3对应的电子级水水源。
6 水质控制项目及其限值
6.1 根据电子级水水质的要求,将再生水的水质控制项目分为基本水质控制项目和扩展水质控制项目。
6.2 将尿素和三卤甲烷作为再生水有机物的指示性水质控制项目,列为基本水质指标
7.1 污水宜经过反渗透等深度处理,生产再生水。
7 处理流程与环节
7.1 污水宜经过反渗透等深度处理,生产再生水。
7.2 经深度处理的污水符合表2水质要求,但不符合表3水质要求时,宜进一步经过高级处理,或与常规水资源混合。高级处理或混合处理生产的再生水宜同时符合表2和表3水质要求。高级处理技术选择见附录B。
7.3 电子级水水质有特殊要求时,经深度处理的污水宜进一步经过高级处理。高级处理技术选择见附录B。
7.4 再生水经过滤、离子交换树脂、反渗透、脱气膜、紫外线氧化等技术处理,制备成电子级水。电子级水的制备流程、制备环节与技术示例见附录A。
8 安全与风险控制
8.1 宜将再生水补充进入电子级水制备系统的取水池。
8.2 宜设置备用的电子级水水源,宜检测取水池的再生水水量和水质,保障电子级水制备的稳定性和可靠性。
8.3 宜在再生水管道和用水点的显著位置设置“再生水”和“禁止饮用”标识及说明。
8.4 宜制定措施管控再生水利用过程中的生产风险。
8.5 宜制定全过程的水质异常和突发事件应对措施。
9 取样与检测
9.1 取样
再生水水质检测取样点宜设在再生水厂供水管道末端或电子级水水源补水点。水样宜为24 h混合样,至少每2 h取样一次。
9.2 检测频率
宜在线检测pH、电导率、总有机碳、全硅,宜每周检测氟离子、尿素、硼和总三卤甲烷1次。ESW-1再生水的尿素检测频率宜增加至1次/天。
9.3 检测分析方法
水质控制项目的检测分析方法见附录C,或按照国家认定的替代方法或等效方法执行。
适用范围
本文件规定了用于电子级水水源的再生水分级及水质、处理、安全和检测要求。
本文件适用于作为电子级水水源的再生水,包括城镇污水处理厂出水、电子和半导体工业废水、显示面板工业废水经处理后满足相应要求的再生水。
是否包含专利
否