中国技术市场协会自我承诺
中国技术市场协会发布的T/TMAC 360—2026《ArF光刻胶制备工艺技术要求》团体标准遵循开放、公平、透明、协商一致和促进贸易和交流的原则，按照在本平台公布的《标准制定程序文件_TMAC》制定。T/TMAC 360—2026《ArF光刻胶制备工艺技术要求》团体标准规定的内容符合国家有关法律法规和强制性标准的要求，没有侵犯他人合法权益。
中国技术市场协会在自愿基础上作出本承诺，并对以上承诺内容的真实性负责。
中国技术市场协会
2026年03月31日
| 团体详细信息 | |||
|---|---|---|---|
| 团体名称 | 中国技术市场协会 | ||
| 登记证号 | 51100000500009634R | 发证机关 | 中华人民共和国民政部 |
| 业务范围 | 技术交流 业务培训 书刊编辑 国际合作 咨询服务 | ||
| 法定代表人/负责人 | 许爱东 | ||
| 依托单位名称 | |||
| 通讯地址 | 北京市海淀区复兴路甲23号城乡华懋大厦12层1217室 | 邮编 : 100036 | |
| 标准详细信息 | |||
|---|---|---|---|
| 标准状态 | 现行 | ||
| 标准编号 | T/TMAC 360—2026 | ||
| 中文标题 | ArF光刻胶制备工艺技术要求 | ||
| 英文标题 | |||
| 国际标准分类号 | 31-030 | ||
| 中国标准分类号 | L 90 | ||
| 国民经济分类 | C398 电子元件及电子专用材料制造 | ||
| 发布日期 | 2026年02月14日 | ||
| 实施日期 | 2026年02月14日 | ||
| 起草人 | 孙凤霞、向文胜、赵永红、张琛、潘晓敏 | ||
| 起草单位 | 河北凯诺中星科技有限公司、江苏艾森半导体材料股份有限公司、厦门恒坤新材料科技股份有限公司、海利天成标准技术服务（北京）有限公司、华盛通标（北京）技术服务有限公司 | ||
| 适用范围 | 本文件适用于193 nm波长的ArF光刻胶的制备。 | ||
| 主要技术内容 | 本文件规定了ArF光刻胶的制备工艺基本规定、制备工艺流程、工艺要求、环境与安全。 | ||
| 是否包含专利信息 | 否 | ||
| 标准文本 | 不公开 | ||
| 标准公告 | |||
|---|---|---|---|
| 标准发布公告 | 2026/2/26 13:40:54 | ||
*由中国技术市场协会于2026/2/26 13:40:54在团体标准信息平台公布，最后修改时间：2026/2/26 13:40:54
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