中关村集成电路材料产业技术创新联盟自我承诺
中关村集成电路材料产业技术创新联盟发布的T/ICMTIA PHM0041—2025《集成电路用28纳米节点光掩模工艺规范》团体标准遵循开放、公平、透明、协商一致和促进贸易和交流的原则，按照在本平台公布的《标准制定程序文件_ICMTIA》制定。T/ICMTIA PHM0041—2025《集成电路用28纳米节点光掩模工艺规范》团体标准规定的内容符合国家有关法律法规和强制性标准的要求，没有侵犯他人合法权益。
中关村集成电路材料产业技术创新联盟在自愿基础上作出本承诺，并对以上承诺内容的真实性负责。
中关村集成电路材料产业技术创新联盟
2025年12月23日
| 团体详细信息 | |||
|---|---|---|---|
| 团体名称 | 中关村集成电路材料产业技术创新联盟 | ||
| 登记证号 | 51110000MJ0121530Y | 发证机关 | 北京市民政局 |
| 业务范围 | 开展集成电路材料领域的学术研究、学术交流、咨询培训、会议会展、支持成果转化、承办委托、国际交流。 | ||
| 法定代表人/负责人 | 石瑛 | ||
| 依托单位名称 | |||
| 通讯地址 | 北京市海淀区知春路27号量子芯座大厦15层1712 | 邮编 : 100191 | |
| 标准详细信息 | |||
|---|---|---|---|
| 标准状态 | 现行 | ||
| 标准编号 | T/ICMTIA PHM0041—2025 | ||
| 中文标题 | 集成电路用28纳米节点光掩模工艺规范 | ||
| 英文标题 | |||
| 国际标准分类号 | 31-030 | ||
| 中国标准分类号 | |||
| 国民经济分类 | C398 电子元件及电子专用材料制造 | ||
| 发布日期 | 2025年12月17日 | ||
| 实施日期 | 2026年01月17日 | ||
| 起草人 | 广州新锐光掩模科技有限公司、无锡迪思微电子股份有限公司、无锡中微掩模电子有限公司、长沙韶光芯材科技有限公司、江苏路芯半导体技术有限公司、湖南普照信息材料有限公司。 | ||
| 起草单位 | 郭贵琦、施维、葛海鸣、吕健、华志刚、周家万、李嘉、李弋舟、段聪、尤春、刘维维、廖奕凯、王佳悦。 | ||
| 范围 | |||
| 主要技术内容 | 集成电路光掩模28纳米节点制造标准是根据集成电路半导体先进节点芯片端应用要求，对光掩模技术指标及工艺要求采集、管理和使用等方面进行评估的一套准则。 如今，随着信息技术的迅速发展，集成电路制造业建设越来越踊跃，光掩模承载芯片设计最基础的数据信息，在信息保护、版权维护方面至关重要。因此建立先进半导体的28纳米节点光掩模制造标准，既可以有效规范先进光掩模材料的制造与管理，也有助于国内集成电路产业链的系统化发展。本标准旨在为国产光掩模制作单位建立一套科学完整合规评价体系提供参考，并希望可以推动国产光掩模制造产业持续优化和完善。 本文件规定了集成电路光掩模28纳米节点制造的技术指标、工艺要求、测量方法、检验规则和安全保障条件。 本文件适用于集成电路28纳米节点光掩模的制造。 |
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| 是否包含专利信息 | 否 | ||
| 标准文本 | 不公开 | ||
| 标准公告 | |||
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| 标准发布公告 | 2025/12/23 11:14:53 | ||
*由中关村集成电路材料产业技术创新联盟于2025/12/23 11:14:53在团体标准信息平台公布，最后修改时间：2025/12/23 11:14:53
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