中国电子专用设备工业协会自我承诺
中国电子专用设备工业协会发布的T/CEPEA 0103—2024《半导体集成电路制造用原子层沉积设备》团体标准遵循开放、公平、透明、协商一致和促进贸易和交流的原则，按照在本平台公布的《标准制定程序文件_CEPEA》制定。T/CEPEA 0103—2024《半导体集成电路制造用原子层沉积设备》团体标准规定的内容符合国家有关法律法规和强制性标准的要求，没有侵犯他人合法权益。
中国电子专用设备工业协会在自愿基础上作出本承诺，并对以上承诺内容的真实性负责。
中国电子专用设备工业协会
2025年12月19日
| 团体详细信息 | |||
|---|---|---|---|
| 团体名称 | 中国电子专用设备工业协会 | ||
| 登记证号 | 51100000500005588Q | 发证机关 | 中华人民共和国民政部 |
| 业务范围 | 行业自律 信息交流 业务培训 国际合作 咨询服务 | ||
| 法定代表人/负责人 | 赵晋荣 | ||
| 依托单位名称 | |||
| 通讯地址 | 北京市海淀区复兴路49号 | 邮编 : 100036 | |
| 标准详细信息 | |||
|---|---|---|---|
| 标准状态 | 现行 | ||
| 标准编号 | T/CEPEA 0103—2024 | ||
| 中文标题 | 半导体集成电路制造用原子层沉积设备 | ||
| 英文标题 | Atomic Layer Deposition Equipment In Semiconductor Integrated Circuit Manufacturing | ||
| 国际标准分类号 | 23.160 | ||
| 中国标准分类号 | |||
| 国民经济分类 | C356 电子和电工机械专用设备制造 | ||
| 发布日期 | 2025年12月19日 | ||
| 实施日期 | 2026年01月01日 | ||
| 起草人 | 周仁、黎微明、王卓、廖海涛、袁贺、陈金良、宋维聪、贺中鹤、卿晨、李爱东 | ||
| 起草单位 | 江苏微导纳米科技股份有限公司、无锡邑文微电子科技股份有限公司、上海陛通半导体能源科技股份有限公司、上海积塔半导体有限公司、南京大学 | ||
| 范围 | |||
| 主要技术内容 | 主要技术内容：本标准明确了半导体集成电路制造用原子层沉积设备的适用范围、术语定义及主要组成部分，规定了其关键技术要求、测试方法及检验标准等内容，旨在推动行业技术水平提升，增强设备兼容性与标准化程度，并配套标识、包装、运输、存储等实施指导，为设备研发、生产制造、性能评价及采购验收等环节提供统一技术依据。 | ||
| 是否包含专利信息 | 否 | ||
| 标准文本 | 不公开 | ||
| 标准公告 | |||
|---|---|---|---|
| 标准发布公告 | 2025/12/19 13:50:52 | ||
*由中国电子专用设备工业协会于2025/12/19 13:50:52在团体标准信息平台公布，最后修改时间：2025/12/19 13:50:52
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