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中国电子学会自我承诺

  中国电子学会发布的T/CIE 132—2022《磁控溅射设备薄膜精度测试方法》团体标准遵循开放、公平、透明、协商一致和促进贸易和交流的原则,按照在本平台公布的《标准制定程序文件_CIE》制定。T/CIE 132—2022《磁控溅射设备薄膜精度测试方法》团体标准规定的内容符合国家有关法律法规和强制性标准的要求,没有侵犯他人合法权益。
  中国电子学会在自愿基础上作出本承诺,并对以上承诺内容的真实性负责。

中国电子学会
2022年12月29日

团体详细信息
团体名称 中国电子学会
登记证号 社证字第4079号 发证机关 中华人民共和国民政部
业务范围 学术交流 教育普及 书刊编辑 评审鉴定 专业展览 咨询服务
法定代表人/负责人 陈英
依托单位名称 中华人民共和国工业和信息化部
通讯地址 北京市玉渊潭南路普惠南里13号 邮编 : 100036
标准详细信息
标准状态   现行
标准编号   T/CIE 132—2022
中文标题   磁控溅射设备薄膜精度测试方法
英文标题  
国际标准分类号   23.160
中国标准分类号  
国民经济分类   I6520 集成电路设计
发布日期   2022年08月10日
实施日期   2022年08月10日
起草人   赵巍胜、张博宇、程厚义、Sylvain EIMER、彭守仲、许涌、Pierre VALLOBRA、王子路、姚宇暄、许人友、葛继尧、杜寅昌、杜鸿基、李殿浦、杨玉杰、王戈飞、刘宏喜、郭玮、何帆。
起草单位   北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储(北京)科技有限公司、深圳亘存科技有限责任公司。
范围  
主要技术内容   本标准给出了磁控溅射设备薄膜精度评价的术语、测试原理、被测件、测试环境、测试设备、测试程序等。
本标准适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。
是否包含专利信息  
标准文本   查看
标准公告
  标准发布公告 2022/12/29 10:29:31

*由中国电子学会于2022/12/29 10:29:31在团体标准信息平台公布,最后修改时间:2022/12/29 10:29:31

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